193 :名無しさん@Next2ch:2019/04/09(火) 06:42:07.36 ID:kV6Qt2mw0TSMC、EUVを用いた5nmプロセスの設計基盤を提供開始~Corte-A72で7nm比1.8倍の密度と15%の性能改善https://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/1178835.html