FinFETプロセスをめぐる技術開発は競争激化へ ID:oq846uG4

http://eetimes.jp/ee/articles/1503/13/news070.html

現在はTSMCやSamsung ElectronicsなどのファウンドリもIntelとの差を縮めてきていて、接戦が繰り広げられている。

「2～3年前までは、プロセス技術開発においてIntelがはるか先を進み、ファウンドリ各社がそれに追い付こうと懸命に努力していた。しかし現在では、こうした差が縮まってきている。