次世代ハード半導体技術考察スレッド #68

Samsung、2018年に7nm、2020年に4nmリスク生産へ

8nm、7nm、6nm、5nm、4nm LPP（Low Power Plus）及び18nm FD-SOIの量産化が計画されている。

8nmプロセスは、ArF液浸露光を用いるものとしては同社において最も微細なプロセスとなる。

7nmプロセスは、2018年のリスク生産を見込んでいる。7nm以降はEUV露光を用いる。