次世代ハード半導体技術考察スレッド #126

126名無しさん@Next2ch:2018/03/11(日) 03:59:57.56 ID:1nawrhMB

EUV、5nm付近でランダム欠陥 imecが報告
http://eetimes.jp/ee/articles/1803/05/news063.html

>EUV(極端紫外線)リソグラフィの5nmプロセスで、ランダム欠陥が発生する現象が報告された。
>この問題を回避すべくさまざまな技術を適用しているが、これまでのところ、明確な解決策は
>見つかっていないという


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