http://techon.nikkeibp.co.jp/article/EVENT/20140620/359952/
ディスプレイ分野最大の学会「SID」は、もともと展示会のウエートが高く、商談を目的に参加するVIPたちも多い。
それにしても、「Oxide vs. LTPS TFTs I, II, III」というセッションタイトルは他の学会では付けないだろう。技術的な
議論だけでなく応用面での議論が必須になるところが、実にSIDらしい。「Wearable Displays I, II, III」のセッションも
最終製品のイメージが明確で、目標が定めやすくていいと思う。
酸化物TFTの発表は、有機EL（OLED）と組み合わせたパネル試作の発表が多かったが、内容的には酸化物TFT
の信頼性や性能の向上に重きを置いていた。逆に言えば、酸化物TFTの信頼性が有機ELパネルに十分使える
レベルまで向上してきたことの証でもある。
パナソニックが4K有機ELに採用した酸化物TFT技術 パナソニックは「OLED TV」のセッションで、4K有機ELテレビ
に採用した酸化物TFTの信頼性向上技術を報告した（論文番号58.3）。最終日の最後の発表にもかかわらず、
多くの聴衆が最後の質疑応答まで熱心に聴いていた。それでも満足しない技術者たちは、オーサーズインタビュー
で列を作って発表者に質問していた。ちなみに筆者もその一人である。
パナソニックはまず、表示ムラの原因としてIGZOのターゲットピッチによるムラを挙げた。ターゲットからの距離
によってGa不足の領域が存在し、他の領域と異なる特性になってしまう。これに対しては、スパッタリングプロセス
中のイオン衝撃の方向を制御することによって解決したという。
また、信頼性に関しては、下記の2つの対策で大幅に改善している。
（1）フロントチャネルへのNH3プラズマ処理によりNリッチのSiO界面を形成しPBTSを改善
（2）バックチャネルへのN2Oプラズマ処理によりVo（酸素欠乏）を抑制し、NBTSを改善
非常に興味深い報告であった。なお、「アニール温度の最適化により信頼性向上を図っているか」という質問を
したところ、「もちろんアニール温度も重要なパラメータだが、上記プラズマ処理の方がより効果的だった」という。